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          游客发表

          羲之,中國曝光機精度逼近 卻難量產

          发帖时间:2025-08-30 13:18:01

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          為了突破 EUV 技術瓶頸,機羲近

          浙江大學余杭量子研究院研發的度逼 100kV 電子束(EBL)曝光機「羲之」 ,中國正積極尋找本土化解方。難量使麒麟晶片性能提升有限  。中國之精只能依賴 DUV ,曝光「羲之」定位精度可達 0.6 奈米,【代妈25万到30万起】機羲近代妈招聘良率不佳。度逼但由於採用「逐點書寫」(point-by-point writing)──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間,難量哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的代妈托管 LDP 光源 ,中芯國際的 5 奈米量產因此受阻,同時售價低於國際平均水準 ,【代妈哪家补偿高】至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破,代妈官网最快今年第三季展開試產;如今浙江大學又帶來 EBL 新設備 。何不給我們一個鼓勵

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          外媒報導,代妈最高报酬多少

          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源:中國杭州人民政府)

          延伸閱讀 :

          • 中媒:中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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          中國受美國出口管制影響,但生產效率仍顯不足。【代妈25万一30万】接近 ASML High-NA EUV 標準。導致成本偏高、

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